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高精度低溫恒溫槽CHDC-0530內(nèi)外循環(huán)一體機

簡要描述:高精度低溫恒溫槽CHDC-0530內(nèi)外循環(huán)一體機,低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源, 可在機內(nèi)水槽進行恒溫實驗,或通過軟管與其他設備相連,作為恒溫源配套使用。泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門,高等院校,企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門。

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-11
  • 訪  問  量:1048

詳細介紹

品牌其他品牌溫度穩(wěn)定性0.5℃
溫度范圍-5-100℃水浴槽容積30L
溫控功能制冷/加熱型價格區(qū)間面議
循環(huán)功能內(nèi)外循環(huán)儀器種類恒溫浴槽
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合

高精度低溫恒溫槽CHDC-0530內(nèi)外循環(huán)一體機

技術(shù)參數(shù):

型號

溫度范圍
  ℃

溫度波
  動度℃

控溫精度℃

工作槽容積
  mm3

工作槽開
  口mm2

槽深
  mm

循環(huán)泵流
  量L/min

排水

CHDC-0506

﹣5~100

±0.05

0.01

250×200×150

180×140

150

6

CHDC-0510

﹣5~100

±0.05

0.01

250×200×200

180×140

200

6

CHDC-0515

﹣5~100

±0.05

0.01

300×250×200

235×160

200

6

CHDC-0520

﹣5~100

±0.05

0.01

280×250×300

235×160

300

6

CHDC-0530

﹣5~100

±0.05

0.01

420×330×230

310×280

230

13


低溫恒溫槽/恒溫水槽油槽的使用說明及注意事項   

1.槽內(nèi)加入液體介質(zhì),液體介質(zhì)液面不能低于工作臺板30mm。      

2.液體介質(zhì)的選用:      

A:工作溫度低于5℃時,液體介質(zhì)一般選用酒精。      

B:工作溫度5~80℃時,液體介質(zhì)一般選用純凈水。      

C:工作溫度80~90℃時,液體介質(zhì)一般選用15%甘油水溶液。      

D:工作溫度90~100℃時,液體介質(zhì)一般選用油。      

3. 循環(huán)泵的連接      

A:內(nèi)循環(huán)泵的連接,將出液管與進液管用軟管連接既可隨機配一根軟管。      

B:外循環(huán)泵進行外循環(huán)連接,將出液管用軟管連接在槽外容器進口,將進液管接在槽外容器出口注:儀器左面靠前的管為進液管,背面的管為出液管。      

4.插上電源,開啟“電源"開關,開啟“循環(huán)"開關。     

5.儀表操作如下:      

A:移位,▲加數(shù),▼減數(shù),〖SET〗設定功能鍵。      

B:溫度設定:按設定功能鍵進入溫度設定狀態(tài),設定值末位閃爍,此時先按移位后按加減,設定您所需要的工作溫度,再按設定功能鍵并保存設定值,此時測量顯示的是當前槽內(nèi)液體介質(zhì)的溫度,此后微機進入自動控制狀態(tài);所設定的工作溫度應高于室內(nèi)溫度 8℃。      

C:如果工作溫度低于環(huán)境溫度時,開啟“制冷"開關制冷至所需溫度。



高精度低溫恒溫槽CHDC-0530內(nèi)外循環(huán)一體機

高精度低溫恒溫槽,又稱高精度低溫恒溫浴槽,是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源,兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性,測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質(zhì)檢部門。根據(jù)槽開口尺寸的不同,可在浴槽內(nèi)進行恒溫實驗,亦可通過軟管與其他設備相連接,與恒溫源配套使用。

外循環(huán):通過泵的循環(huán)能力,利用出水口將保溫軟管與外部設備連接,形成封閉回路,流回設備進水口,是將槽內(nèi)恒溫介質(zhì)外引,建立外部恒溫場。內(nèi)循環(huán):通過泵對槽內(nèi)液體介質(zhì)的循環(huán)吞吐,增加槽內(nèi)溫度的均勻性,減少溫度波動。 循環(huán)水恒溫的應用領域: 生化領域:旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器(合成器)等。材料領域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領域:超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領域:激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。


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